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晶圓背減薄地質(zhì)領(lǐng)域應(yīng)用
更新時間:2024-12-05   點(diǎn)擊次數(shù):4801次

通常,標(biāo)準(zhǔn)的晶圓薄片生產(chǎn)可以分為以下步驟:                                     

1、現(xiàn)場規(guī)范的刨削和修整;

2、對多孔或易碎的材料進(jìn)行浸漬化處理(可選);

3、初步研磨切割材料;

4、制備均勻厚度的載玻片;

5、本粘合到制備的載玻片上;

6、稀釋粘合的本;

7、將樣品研磨至選定的厚度;

8、拋光本(可選)。

晶圓背減薄

 

 

為什么選擇Logitech?

1、Logitech在高精度設(shè)備的設(shè)計、制造以及復(fù)雜的材料加工方面擁有50多年的豐富經(jīng)驗(yàn)提供種多功能系統(tǒng),用于減薄研磨、拋光和制備地質(zhì)薄片。

2、Logitech專業(yè)技術(shù)團(tuán)隊在生產(chǎn)高質(zhì)量的地質(zhì)薄片如巖石薄片和土壤方面,具有豐富的經(jīng)驗(yàn)和技術(shù)解決方案。Logitech非常注重合作與工藝傳輸,我們可以幫助您整合相關(guān)工藝流程和系統(tǒng),以滿足您的高精度表面處理要求。

3、Logitech系統(tǒng)通常可加工處理巖石、煤炭、土壤、混凝土等薄片。

有關(guān)使用Logitech系統(tǒng)進(jìn)行地質(zhì)領(lǐng)域晶圓處理的更多信息,歡迎隨時咨詢。

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